億元進(jìn)口只是中低端產(chǎn)品，光刻機(jī)領(lǐng)域中國(guó)的差距在哪？

目前，光刻機(jī)領(lǐng)域的老大是荷蘭ASML，壟斷了市場(chǎng)，而國(guó)內(nèi)則*依賴進(jìn)口！前些日子，一臺(tái)價(jià)值1.06億元的設(shè)備經(jīng)空運(yùn)從荷蘭飛抵廈門，卻得到機(jī)場(chǎng)海關(guān)嚴(yán)陣以待的待遇，而所引進(jìn)光刻機(jī)設(shè)備卻只是中低端設(shè)備，光刻機(jī)領(lǐng)域中國(guó)的差距到底在哪？

事件經(jīng)過(guò)設(shè)備價(jià)值過(guò)高達(dá)1.06億元
對(duì)保存和運(yùn)輸要求很高
必須保持在23℃恒溫狀態(tài)下運(yùn)輸為了避免影響設(shè)備的精度，在運(yùn)輸中也對(duì)穩(wěn)定性有*的要求。因此，機(jī)場(chǎng)海關(guān)以機(jī)坪查驗(yàn)的方式對(duì)該貨物實(shí)行全程機(jī)邊監(jiān)管，待貨物裝入特制溫控氣墊車，移至海關(guān)的機(jī)坪視頻監(jiān)控探頭之下，完成緊急查驗(yàn)后當(dāng)晚就得到放行。

光刻機(jī)知識(shí)

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一
按照用途可以分為好幾種
生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)
用于封裝的光刻機(jī)
LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)

用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上 大的短板，國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的光刻機(jī)*依賴進(jìn)口，本次廈門企業(yè)從荷蘭進(jìn)口的光刻機(jī)就是用于芯片生產(chǎn)的設(shè)備。

在光刻機(jī)上，除了老大ASML，尼康和佳能也曾做過(guò)光刻機(jī)，而且尼康還曾經(jīng)得到過(guò)Intel的訂單。但是近些年，尼康在ASML面前被打的毫無(wú)還手之力，光刻機(jī)市場(chǎng)基本被ASML占據(jù)——即便是尼康 新的Ar-F immersion 630賣價(jià)還不到ASML Ar-F immersion 1980D平均售價(jià)的一半，也無(wú)法挽回?cái)【帧?img alt="" src="http://img47.chem17.com/9/20181127/636789339938686114920.jpg" style="height:614px; width:609px" />

原因何在？一方面是Intel新CEO上臺(tái)后，不再延續(xù)與尼康的620D合同，這使得尼康失去了一個(gè)大客戶。另一方面，也和尼康自身技術(shù)實(shí)力不足有關(guān)，尼康的光刻機(jī)相對(duì)于ASML有不少瑕疵，在操作系統(tǒng)上設(shè)計(jì)的架構(gòu)有缺陷，而且尼康的光刻機(jī)的實(shí)際性能和尼康*宣傳的有不小差距，這使得臺(tái)積電、Intel、三星、格羅方德等晶圓大廠不可能為了省一點(diǎn)錢去買有瑕疵的產(chǎn)品。
目前，尼康的光刻機(jī)基本被ASML吊打，主流半導(dǎo)體產(chǎn)線中只有少數(shù)低階老機(jī)齡的光刻機(jī)還是尼康或者佳能，其他基本都是ASML的天下。某種程度上，尼康的光刻機(jī)也只能用賣的超級(jí)便宜來(lái)?yè)屖袌?chǎng)了。那么，賣的到底有多便宜呢？
用數(shù)據(jù)來(lái)說(shuō)話，ASML的 EUV NXE 3350B 單價(jià)超過(guò)1億美元，ArF Immersion售價(jià)大約在7000萬(wàn)美元左右。相比之下，尼康光刻機(jī)的單價(jià)只相當(dāng)于ASML價(jià)格的三分之一。光刻機(jī)的玻璃增透膜難度也是高精尖

我們?cè)敢鉃檫@個(gè)行業(yè)做出自己的努力長(zhǎng)按二維碼 加微信
歡迎志同道合的朋友技術(shù)交流與合作光刻機(jī)原理

上圖是一張ASML光刻機(jī)介紹圖
下面，簡(jiǎn)單介紹一下圖中各設(shè)備的作用

在加工芯片的過(guò)程中，光刻機(jī)通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過(guò)一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠、曝光。越復(fù)雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多，也需要更精密的曝光控制過(guò)程。
國(guó)內(nèi)現(xiàn)狀

目前，光刻機(jī)領(lǐng)域的老大是荷蘭ASML，并已經(jīng)占據(jù)了高達(dá)80%的*，壟斷了光刻機(jī)市場(chǎng)。日本尼康在光刻機(jī)上*被ASML擊敗，即便尼康的ArF光刻機(jī)售價(jià)僅僅不到ASML的一半也無(wú)補(bǔ)于事。Intel、臺(tái)積電、三星用來(lái)加工14/16nm芯片的光刻機(jī)都是買自ASML，格羅方德、聯(lián)電以及中芯等晶圓廠的光刻機(jī)主要也是來(lái)自ASML。 更關(guān)鍵的是， 的EUV光刻機(jī)僅僅ASML能夠生產(chǎn)，ASML在今年第三季度和第四季度出售的兩臺(tái)EUV光刻機(jī)售價(jià)都超過(guò)1億美元，落后EUV一代的ArF光刻機(jī)平均售價(jià)也在4000萬(wàn)至5000萬(wàn)歐元左右，從高企的報(bào)價(jià)和EUV光刻機(jī)*出售可以看出，光刻機(jī)的技術(shù)門檻*，是人類智慧集大成的產(chǎn)物。相比之下，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)廠商則顯得非常寒酸，處于技術(shù)的上海微電子裝備有限公司已量產(chǎn)的光刻機(jī)中，性能 的是能用來(lái)加工90nm芯片的光刻機(jī)，技術(shù)差距說(shuō)是鴻溝都不為過(guò)。正是因此，國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的光刻機(jī)*依賴進(jìn)口，本次從荷蘭空運(yùn)至廈門機(jī)場(chǎng)的ASML光刻機(jī)，就是用于芯片生產(chǎn)制造的光刻機(jī)，由于是廈門的一家公司申報(bào)進(jìn)口的，小編猜測(cè)，這臺(tái)設(shè)備很有可能是廈門當(dāng)?shù)卣c中國(guó)臺(tái)灣聯(lián)華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購(gòu)的。
不過(guò)，由于西方瓦森納協(xié)議的限制，中國(guó)只能買到ASML的中低產(chǎn)品，這一點(diǎn)從廈門當(dāng)?shù)仄髽I(yè)進(jìn)口的光刻機(jī)報(bào)價(jià)僅1億人民幣就可以看出來(lái)了。